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      晶圓金屬和絕緣層鍍膜機

      晶圓級金屬和絕緣層鍍膜機采用團簇式結構,設置一個(gè)中心中轉室/一個(gè)進(jìn)出料式和四個(gè)工藝室, 工件在上,濺射蒸發(fā)源在下。中心中轉室與周?chē)魇揖猩凳讲灏彘y做氣氛隔離,中心中轉 室設置有機械手,用于室間傳送工件。高真空泵為渦輪分子泵系統,前級和初真空泵配置羅茨 泵干泵機組。

      咨詢(xún)熱線(xiàn):0755-27525981

      設備介紹:

      進(jìn)出料室平時(shí)可開(kāi)關(guān)倉門(mén),用于進(jìn)岀料,同時(shí)可安裝等離子體原和離子束源做工件離子清洗。 進(jìn)出料室與外設自動(dòng)化工件傳輸系統之間可以設置機械手來(lái)完成工件自動(dòng)進(jìn)出,非量產(chǎn)和實(shí)驗 設備可手動(dòng)完成進(jìn)出料。


      四個(gè)工藝室可分別配置濺射靶或蒸發(fā)源,每個(gè)工藝室可安裝六種材料的濺射靶和三種獨立垣蝸 的電子束蒸發(fā)源,下方中心可設置等離子體源或離子束源,可用于工件清洗/離子束輔助濺射和 PECVDo濺射靶可配置獨立的靶擋板,以避免靶材之間的污染。


      每個(gè)工藝室配備有工件轉動(dòng)系統,可作零點(diǎn)方位定位控制,轉速每分鐘20轉到100轉。如有需 要,工件架可做上下升降,以滿(mǎn)足不同靶基距及其它工藝條件的要求。每個(gè)工藝室配備有獨立 的氣氛控制系統。


      設備適應產(chǎn)品:

      工件尺寸:12吋/8吋。

      可鍍金屬導電膜層:Au/Ag/Mo/Cu/Al/Cr/Ni/Zr/C 

      可鍍絕緣介質(zhì)膜層:SiO2/Al2O3/SiN/Nb2O5/ZrO2 

      可鍍半導體膜層:Si/Ge/MoO/SiC

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